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產(chǎn)品中心

Product Center

當前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD真空濺射金屬磁控鍍膜機

真空濺射金屬磁控鍍膜機

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

真空濺射金屬磁控鍍膜機膜厚監測鍍膜機鄭州科探KT-Z1650PVD,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動(dòng)控制,設計符合人體工程學(xué),所得結果一致,可重復性高。

產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
更新時(shí)間:2024-04-30
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
訪(fǎng)問(wèn)量:781
品牌鄭科探產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域環(huán)保,能源,電子,冶金,航天

鄭州科探儀器設備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積(PVD)系統的設計者和制造商,客戶(hù)服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高度積極地開(kāi)發(fā)新設計以滿(mǎn)足客戶(hù)的特殊要求。

鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質(zhì)量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過(guò)分銷(xiāo)商銷(xiāo)往許多大學(xué)和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述:

真空濺射金屬磁控鍍膜機,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動(dòng)控制,設計符合人體工程學(xué),所得結果一致,可重復性高。

產(chǎn)品特點(diǎn):

• 彩色觸摸屏:數據輸入簡(jiǎn)單快速。

• 通過(guò)觸摸屏中直觀(guān)檢測數據和曲線(xiàn);歷史頁(yè)面可顯示歷史涂層信息。

• 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結構。

• 可手動(dòng)或自動(dòng),根據時(shí)間或根據厚度進(jìn)行濺射。

• 樣品臺更換簡(jiǎn)單:標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉;行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。

真空濺射金屬磁控鍍膜機

真空濺射金屬磁控鍍膜機技術(shù)參數:

控制方式

7寸人機界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類(lèi)型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口














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